EUV光刻機研發(fā)難在哪？ASML：數(shù)百家頂級供應(yīng)商 40年時間

(資料圖)

在半導(dǎo)體設(shè)備中，光刻機是核心設(shè)備，決定了工藝的先進程度，EUV是當(dāng)前最先進的光刻機，可以制造7nm以下的工藝，全球僅有荷蘭ASML公司能夠生產(chǎn)，單價將近10億元，下一代EUV甚至超過25億元。

研發(fā)EUV光刻機到底有多難？全球還有別的公司可以制造出來嗎？對于這樣的疑問，ASML公司日前在財報會議上談到了EUV的難點。

ASML表示，就ASML而言，它由數(shù)百個供應(yīng)商組成，每個供應(yīng)商在什么方面都是世界級的。

只要提到通快、蔡司和VDSL的名字，他們的工作就是世界級的，這只是上百家供應(yīng)商中的三個。

研發(fā)光刻機需要的不止是專利，它的訣竅是人，是大腦，ASML表示這些花了40年的時間。

物理學(xué)規(guī)律在全球都是一樣的，但是ASML做到這一步有著數(shù)百家公司積累的專業(yè)知識，他們作為系統(tǒng)集成商做出了光刻機。

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責(zé)任編輯：憲瑞

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