蘋果有望在明年推出三款新iPhone,這是iPhone XS,XS Max和iPhone XR的直接后續(xù)產品。該公司預計不會進行任何重大的設計變更,這意味著Apple的缺口設計將繼續(xù)保留。然而,一位泄密者聲稱,2020年的iPhone型號將采用三星目前正在做的事情進行屏幕重新設計。我們談論的是沒有缺口的Infinity-O屏幕,因為自拍孔穿過屏幕。但不要以為蘋果正準備簡單地復制三星的新智能手機設計。
這是因為蘋果公司在2016年提交了一項描述鉆孔技術的專利,早在iPhone X及其缺口設計到來之前。
一位在推特和微博上名為Ice Universe并且通常專注于三星泄密的中國泄密者,幾天前發(fā)布了以下消息。根據(jù)他的說明,2019年的iPhone仍將有一個缺口,2020款將采用穿孔設計。
雖然蘋果公司在推出之前已經很好地確定了下一代iPhone的設計,但對于2020年的iPhone泄密來說可能還為時過早,所以我們將有足夠的時間等待,看看泄密者的信息是否準確。
蘋果之前的專利涉及在顯示屏中鉆孔相機孔所需的制造工藝的大量技術細節(jié)。請記住,蘋果沒有像三星這樣的顯示器制造部門。但蘋果正在研究將在未來幾個月內擴散的相同屏幕技術。盡管Galaxy S10的Infinity-O屏幕預計會更加復雜,但三星和華為都在過去幾周推出了帶攝像頭孔的顯示屏。
此外,如果蘋果確實推進了2020年的傳聞設計,我們應該期待iPhone制造商能夠找到一種方法來保持iPhone上的面部識別功能,而不會出現(xiàn)缺口。正如我們之前解釋的那樣,Galaxy S10可能有一個令人興奮的設計,但三星在其手機上沒有復雜的3D面部識別。
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