阿斯麥ASML全新EUV光刻機(jī)將于2021年中期發(fā)貨 匹配套準(zhǔn)精度至1.1納米

《科創(chuàng)板日?qǐng)?bào)》記者從ASML獲悉，其公布了EUV路線圖上的新機(jī)型TWINSCANNXE:3600D的最終規(guī)格，這是30mJ/cm2的曝光速度達(dá)到每小時(shí)曝光160片晶圓，提高了18%的生產(chǎn)率，并改進(jìn)機(jī)器匹配套準(zhǔn)精度至1.1納米，并計(jì)劃于2021年的中期開(kāi)始發(fā)貨。(記者 戚夜云)