三星的3nm GAA被指是“面子工程”,臺積電的3nm FinFET同樣不太順利。
上周,業(yè)內(nèi)人士手機晶片達人爆料,因為客戶都不用,臺積電內(nèi)部決定放棄N3工藝,轉(zhuǎn)攻2023下半年量產(chǎn)成本更優(yōu)的N3E工藝。
根據(jù)臺積電路線圖,N3也就是公司的第一代3nm,N3E則是第二代。
今日晚間(8月29日),同一個爆料人透露,從蘋果員工那里了解到,他們對3nm第一個項目Ibiza效能不滿,所以取消了N3 Ibiza,短期內(nèi)是看不到3nm的M3終端產(chǎn)品了。
一方面,這進一步證實了臺積電N3工藝現(xiàn)在是無米下鍋,另一方面也暗示,無論是A16處理器還是M2 Pro/Ultra等,鐵定是無緣3nm,而是4nm。
如今,7nm以下的先進工藝實質(zhì)上只有三星、臺積電和Intel三家能生產(chǎn)制造,可是隨著摩爾定律放緩,納米晶體管逼近物理極限,進展看起來越來越不樂觀。
標簽: 臺積電3nmGAA工藝曝光 N3E則是第二代 Intel三家能生產(chǎn)制造 摩爾定律放緩
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